दुई-फोटोनिक लाजर लिथ्रोग्राफ (DL) एक मुख्य दिशानिर्देशको विकासमा पोलीमर माइक्रो- र Nanobubs को विकास मा एक मुख्य दिशाहरु हो। यसको शर्त प्लस लगभग कुनै पनि तीन-आयाम कन्फिगरेसनका संरचना सिर्जना गर्ने क्षमता हो, जुन फोटोन क्रिस्टल, विभिन्न यांत्रिक उपकरणहरू, साथै प्रशोधन र भण्डारण उपकरणहरू सिर्जना गर्दा प्रयोग गर्न सकिन्छ।
जहाँसम्म, यस प्रविधि द्वारा प्रदान गरिएको उत्कृष्ट अवसरहरू बावजुद यसले पर्याप्त सीमितता समावेश गर्दछ। सामग्रीको छनौट जब DLL प्रयोग गर्दा फोटोवस्तुवादीहरू द्वारा सीमित छ - बहुमूल्य फोटोसमेत सामग्रीहरू। दृश्य दायरामा बहुविधुद्रोहको पारदर्शिताका कारण, विद्युतीय संकल्पका अभाव, मध्यका मेकानिकल गुणहरूको अभाव, डेलसँग सिर्जना गरिएको संरचनाहरूको व्यावहारिक प्रयोग सीमित रहन्छ। DF-संरचनाहरूको पोस्ट प्रोसेसिंग प्रयोग गरेर अवस्थित प्रतिबन्धहरू पार गर्न सम्भव छ।
पोस्ट प्रशोधन गर्ने कार्यरत तरिकाहरू पाइरोलिसिस भनिन्छ, जुन एकै साथ समाधानको समाधान र नयाँ कार्यक्षमता को दुबै प्रस्ताव प्रदान गर्दछ। विशेष रूपमा, पाइरोलिड गरिएको सामग्रीहरूले बढेको मेकानिकल शक्तिका साथ उच्च थर्मल र विकिरण स्थिरता प्रदर्शन गर्यो। पछ्याइएको पाइरोलिसिसले न्यूरोटियारको ध्वनिको लागि सफलतापूर्वक कार्बन नन एन्डलेरोडहरू प्राप्त गरेको छ, परमाणु-फोर्स माइक्रोस्कोप र सुपरफ्रेफ मेकानिकल धातुको लागि फोटोन क्रिस्टलहरू।
पायरोलिसिसले पनि DLL विधिको रिजोलुसन सुधार गर्दछ, किनकि पाइरोलिसिसको निर्धारणको संरचनाले मूल आकारको तुलनामा महत्वपूर्ण स .्घर्ष देखायो। तर पाइरोलिज्ड संरचनाको संकुचनले DLL चरणमा सब्बरेशन संरचनाको समस्या बढाउँदछ। यी समस्याहरू महत्त्वपूर्ण व्यावहारिक महत्त्व छन्, तर अहिलेसम्म यी मुद्दाहरूमा विस्तृत अनुसन्धान थिएनन्। यसैबीच, तत्त्वहरूको आकार र सामान्य रूपमा डीएफ-संरचनामा पाइरोलिसिसको प्रभावको विस्तृत मूल्यांकनले पूर्ण रूपमा आवश्यक आवश्यक छ यदि उच्च सटीकताको साथ माइएफ-संरचनाको प्रभाव पाएको छ भने।
शीर्ष प row ्क्ति: IP-DIPE (A) लेन्स (a) pyroilyis र (B) Porolycis पछि pyrolycis (c plooclis मा (e) मा 69 0 डिग्री सी। कम दायरा: कम दायरा: लेन्स SZ2080 (f) मा PYROLILSSISS CH9 99 0 डिग्री c / © WWW.SAPAPPET.OSG
दर्जन प्रविधिको केन्द्रको केन्द्रका नानफायिक क्षेत्रका वैज्ञानिकहरूले दर्जनौं टेक्नोलोजीरहरूको आकारमा ड्रोलिसिबसको प्रभावको सञ्चालनको काम गरे: पूर्ण रूपमा जैविक IP -DIP र अंग-आर्निरिक ormocomp र SZ2080। अर्गोन वातावरणमा he0 50 5500 र 69 0 डिग्री सेल्सियसको लागि आकारमा परिवर्तनहरू, रासायनिक संरचना र सिलिकनको प्लेटको सब्सट्रेटसँग आस्तकरण अनुमान गरिएको थियो।
अप्टिकल भौतिक अभिव्यक्ति जग्गा जमिनमा प्रकाशित गरिएको कार्यमा वैज्ञानिकहरूले पुष्टि गरे कि संरचनाको श्राप फोटोरेजवादीको प्रकारका साथै पाइरोलिसिस तापमान, वातावरण र ज्यामिति संरचना। प्यारोलिसिसको साथ पोस्ट प्रोसेसिंग पछि विशेष फोटोबोर्स्टिस्टको व्यवहारलाई ध्यानमा राख्दै, यो इष्टतम परिणामहरू, पूर्ण रूपमा विशिष्ट कार्यहरू, र मनमानी आकारको र लगभग कुनै गन्तव्य सिर्जना गर्न सम्भव छ।
तुलनाले देखायो कि उच्च तापमान एक मजबूत संकुचन मा जान्छ। आयुन्डिंगको कार्बनमा रूपान्तरण भएपछि आईपी-डुबकीहरूबाट संरचनाहरू, जबकि ormocomp र sz2080 फोटोहरू को अरोगानिक पदार्थहरू अभिनयको साथ गिलासमा परिमार्जन गरिन्छ। आईपीआई-डुबकी संरचनाहरूले चयनित फोटोजेस्टिस्टहरूबाट सब भन्दा ठूलो संकुचित प्रदर्शन गर्दछ। यसैले, आईपी-डुबकी पाइरोलिसिसको पछिल्लो पाइरोलिसिसको साथ Dllsisclise संचारकारी गिलास क्लान कार्बन संरचनाहरू सिर्जना गर्न प्रयोग गर्न सकिन्छ।
ओम्पर्स अप्टिकल तत्वहरूको आदेशको लागि उपयोगी छ जुन एक्स-रे स्रोतहरूको मागमा हुन सक्छ। यसको फलस्वरूप, प्यारोलिसिसको बेलामा फोटोवस्तु SZ20800 को संरचना प्रायः सब्सट्रेटबाट विच्छेदन हुन्छन्, जुन एकल संरचनाको निर्माणको लागि उपयुक्त छ, जुन अर्को बुधवार सारिन्छ। प्राप्त गरिएको डाटा ड्रोलिसिस टेक्नोलोजीले बनाएको पोस्ट प्रशोधन प्रशोधन संरचनाको एक मानक विधिको रूपमा प्रयोग गर्न सक्दछ, र पोस्ट प्रशोधन, वैज्ञानिकहरूले नोट पाउने यस प्रकारको सक्रिय विकासको रूपमा प्रयोग गर्ने।
स्रोत: ना naked ्गो विज्ञान