Laser Laser Laser Lithogh (DL) គឺជាទិសដៅមួយក្នុងចំណោមទិសដៅសំខាន់មួយក្នុងការអភិវឌ្ឍបច្ចេកវិទ្យាបន្ថែមដែលត្រូវបានប្រើដើម្បីបង្កើតមីក្រូខ្នាតតូចនិង Nanoobjects ។ វាបូកដោយគ្មានលក្ខខណ្ឌរបស់វាគឺសមត្ថភាពក្នុងការបង្កើតរចនាសម្ព័ន្ធស្ទើរតែគ្រប់តំបន់ដែលអាចប្រើនៅពេលបង្កើតគ្រីស្តាល់គ្រីស្តាល់ឧបករណ៍មេកានិចផ្សេងៗក៏ដូចជាឧបករណ៍កែច្នៃនិងឧបករណ៍ផ្ទុក។
ទោះយ៉ាងណាក៏ដោយទោះបីជាមានឱកាសល្អបំផុតដែលផ្តល់ដោយបច្ចេកវិទ្យានេះក៏ដោយក៏វាមានដែនកំណត់យ៉ាងច្រើនដែរ។ ជម្រើសនៃវត្ថុធាតុដើមនៅពេលប្រើ DLL ត្រូវបានកំណត់ដោយអ្នកថតរូប - សំភារៈផ្ទុះភ្លេង Polymeric ។ ដោយសារតែតម្លាភាពនៃប៉ូលីមែរតាមជួរដែលមើលឃើញការខ្វះចរន្តអគ្គិសនីលក្ខណៈសម្បត្តិអគ្គិសនីផ្នែកខាងក្នុងក៏ដូចជាស្ថេរភាពកំដៅនិងវិទ្យុសកម្មទាបការប្រើប្រាស់ជាក់ស្តែងនៃរចនាសម្ព័ន្ធដែលបានបង្កើតឡើងដោយ DLL នៅតែមានកម្រិត DLL ។ វាអាចធ្វើទៅបានក្នុងការយកឈ្នះការដាក់កម្រិតមួយចំនួនដែលមានស្រាប់ដោយប្រើរចនាសម្ព័ន្ធក្រោយនៃរចនាសម្ព័ន្ធ DF ។
វិធីសាស្ត្រជោគជ័យមួយនៃការកែច្នៃក្រោយការកែច្នៃត្រូវបានគេហៅថា pyroolysis ដែលក្នុងពេលដំណាលគ្នាផ្តល់នូវការកើនឡើងនៃដំណោះស្រាយនិងការណែនាំមុខងារថ្មី។ ជាពិសេសសមា្ភារៈ pyrolycred បានបង្ហាញពីស្ថេរភាពកម្ដៅខ្ពស់និងវិទ្យុសកម្មរួមជាមួយនឹងការកើនឡើងនូវកម្លាំងមេកានិច។ DLL បានបន្តដោយ Pyrolysis ត្រូវបានប្រើដោយជោគជ័យដើម្បីទទួលបានដោយជោគជ័យដើម្បីទទួលបានការសំលេងសរសៃប្រសាទ, គន្លឹះពិសេសសម្រាប់អតិសុខុមទស្សន៍ដែលមានជាតិអាតូម, photon គ្រីស្តាល់នៅក្នុងជួរដែលមើលឃើញនៅក្នុងជួរដែលមើលឃើញនិងលក្ខណៈបច្ចេកទេសម៉ូតអាវីសដែលមើលឃើញ។
Pyrolysis ក៏ធ្វើអោយប្រសើរឡើងនូវដំណោះស្រាយនៃវិធីសាស្ត្រ DLL ផងដែរចាប់តាំងពីរចនាសម្ព័ន្ធបានប៉ះពាល់នឹង pyrolysis បានបង្ហាញថាការរួញតូចមួយបើប្រៀបធៀបទៅនឹងទំហំដើម។ ប៉ុន្តែការរួញតូចនៃរចនាសម្ព័ន្ធ pyrolyzed បានធ្វើឱ្យបញ្ហានៃរចនាសម្ព័ន្ធប្រោះនេះធ្វើឱ្យប្រសើរឡើងនូវស្រទាប់ខាងក្រោមដែលកើតឡើងរួចហើយនៅក្នុងដំណាក់កាល DLL ។ បញ្ហាទាំងនេះគឺជាសារៈសំខាន់ជាក់ស្តែងដ៏សំខាន់ប៉ុន្តែរហូតមកដល់ពេលនេះមិនមានការស្រាវជ្រាវទូលំទូលាយលើបញ្ហាទាំងនេះទេ។ ទន្ទឹមនឹងនេះការវាយតម្លៃត្រឹមត្រូវនៃការថយចុះទំហំនៃធាតុនិងជាទូទៅការវាយតម្លៃទូលំទូលាយនៃផលប៉ះពាល់នៃការ pyrolysis នៅលើរចនាសម្ព័ន្ធ DF គឺចាំបាច់ប្រសិនបើមានការងារនៃការដំណើរការ MIC ជាមួយនឹងភាពត្រឹមត្រូវខ្ពស់។
ជួរដេកខាងលើ: កញ្ចក់ IP-DIP (ក) ដល់ pyrolysis និង (ខ) បន្ទាប់ពីចម្ងាយ 450 អង្សាសេ (គ) កែវភ្នែកទៅ Pyrolysis in (E) 450 អង្សារ C និង (E) 690 អង្សាសេ។ ជួរទាប: lens sz2080 (f) ទៅ pyrolysis និង (f) បន្ទាប់ពី pyrolysis នៅ 690 អង្សារ c / © www.osapbolish.org
អ្នកវិទ្យាសាស្ត្រនៃផ្នែកណេហូតូស្តាននៃមជ្ឈមណ្ឌលបច្ចេកវិទ្យាកង់តូស៊ួរបានធ្វើការសិក្សាប្រៀបធៀបនៃឥទ្ធិពលនៃ Pyrolysis លើទំហំរបស់ Micrometers រាប់សិបនាក់ដែលបានបោះពុម្ពដោយប្រើកម្មវិធីថតរូប DLL ចំនួនបី: IP សរីរាង្គ -dip និងសរីរាង្គ - ormocomp និង sz2080 ។ សម្រាប់សីតុណ្ហភាពរបស់អាណល 450 និង 690 អង្សាសេក្នុងបរិយាកាសអាហ្គីនការផ្លាស់ប្តូរទំហំគីមីនិងការស្អិតជាប់ក្នុងស្រទាប់ខាងក្រោមនៃចានស៊ីលីកុនត្រូវបានប៉ាន់ស្មាន។
នៅក្នុងការងារដែលបានចុះផ្សាយក្នុងឯកសារសំភារៈអុបទិកអ៊ិនធឺរណែត CCC អ្នកវិទ្យាសាស្ត្របានបញ្ជាក់ថាការធ្លាក់ចុះនៃរចនាសម្ព័ន្ធត្រូវបានកំណត់ដោយប្រភេទនៃការថតចម្លងក៏ដូចជាសីតុណ្ហភាព pyrolys បរិយាកាសនិងធរណីមាត្រ។ ពិចារណាលើឥរិយាបថរបស់អ្នកថតរូបជាក់លាក់មួយបន្ទាប់ពីដំណើរការជាមួយ Pyrolysis វាអាចមានលទ្ធភាពទទួលបានលទ្ធផលល្អប្រសើរបំផុតដែលត្រូវនឹងការងារជាក់លាក់និងបង្កើតភាពធន់ទ្រាំនិងដែលអាចទុកចិត្តបាននៃរូបរាងដែលមានភាពធន់ទ្រាំនិងគោលដៅស្ទើរតែគ្រប់ទិសដៅ។
ការប្រៀបធៀបបានបង្ហាញថាសីតុណ្ហាភាពខ្ពស់នាំឱ្យមានការរួញតូចខ្លាំងជាងមុន។ រចនាសម្ព័នពី IP-DIP បន្ទាប់ពី Annealing ត្រូវបានបំលែងទៅជាកាបូនកញ្ចក់ខណៈដែលសារធាតុរលាកស្រោមខួរនៃថ្នាំ ormocomp និង pz2080 ត្រូវបានកែប្រែនៅក្នុងកញ្ចក់ជាមួយនឹង Annealing ។ រចនាសម្ព័នពីអាយភី - ដុបក៏បង្ហាញពីការរួញតូចធំបំផុតពីអ្នកថតរូបដែលបានជ្រើសរើស។ ដូច្នេះ DLL ដែលមាន pyrolysis ជាបន្តបន្ទាប់នៃ pyrolysis pebolysis ip-dip អាចត្រូវបានប្រើដើម្បីបង្កើតរចនាសម្ព័ន្ធកាបូនកញ្ចក់ដែលមានប្រឹងប្រែង។
Ormocomp មានប្រយោជន៍សម្រាប់ការបង្កើតអារេដែលបានបញ្ជាទិញនៃធាតុអុបទិកដែលអាចមានតម្រូវការលើប្រភពកាំរស្មីអ៊ិច។ ជាលទ្ធផលរចនាសម្ព័ន្ធរបស់អ្នកថតរូប SZ2080 ក្នុងអំឡុងពេល Pyrolysis ត្រូវបានផ្តាច់ចេញពីស្រទាប់ខាងក្រោមដែលមានភាពងាយស្រួលសម្រាប់ការផលិតរចនាសម្ព័ន្ធតែមួយដែលបន្ទាប់មកត្រូវការផ្លាស់ប្តូរទៅថ្ងៃពុធមួយទៀត។ ទិន្នន័យដែលទទួលបានអាចត្រូវបានប្រើបន្ថែមទៀតដោយប្រើបច្ចេកវិទ្យា Pyrolysis ដែលជាវិធីសាស្ត្រស្តង់ដារនៃរចនាសម្ព័ន្ធប្រកួតក្រោយដែលបង្កើតឡើងដោយបច្ចេកវិទ្យាឌីអេសអិលហើយនឹងបម្រើជាការអភិវឌ្ឍយ៉ាងសកម្មនៃការកែច្នៃរបស់អ្នកវិទ្យាសាស្ត្រដែលបានកត់សម្គាល់។
ប្រភព: វិទ្យាសាស្ត្រអាក្រាត