لیزر لیزر دو فوتونیک (DL) یکی از راهنمایی های اصلی در توسعه فن آوری های افزودنی است که برای ایجاد میکرو و نانوذرات پلیمری استفاده می شود. پلاس بی قید و شرط آن توانایی ایجاد ساختارهای تقریبا هر پیکربندی سه بعدی است که می تواند هنگام ایجاد کریستال های فوتون، موجبر، دستگاه های مکانیکی مختلف، و همچنین در دستگاه های پردازش و ذخیره سازی استفاده شود.
با این حال، علیرغم فرصت های عالی ارائه شده توسط این تکنولوژی، حاوی محدودیت های قابل توجهی است. انتخاب مواد هنگام استفاده از DLL توسط Photoresists محدود می شود - مواد حساس به نور پلیمری. با توجه به شفافیت پلیمرها در محدوده قابل مشاهده، فقدان هدایت الکتریکی، خواص مکانیکی متوسط، و همچنین پایداری گرما و تابش کم، استفاده عملی از ساختارهای ایجاد شده با DLL محدود می شود. ممکن است برخی از محدودیت های موجود را با استفاده از پس از پردازش ساختارهای DF غلبه کنید.
یکی از روش های امیدوار کننده پس از پردازش، پیرولیز نامیده می شود که به طور همزمان هر دو افزایش رزولوشن و معرفی قابلیت های جدید را فراهم می کند. به طور خاص، مواد Pyrolycred نشان دهنده پایداری حرارتی و تابش بالا همراه با افزایش قدرت مکانیکی است. DLL به دنبال پیرولیز در حال حاضر با موفقیت مورد استفاده برای به دست آوردن نانو الکترودهای کربنی برای صداهای نوریگر، راهنمایی های ویژه برای میکروسکوپ هسته اتمی، کریستال های فوتون در محدوده قابل مشاهده و مترو های مکانیکی فوق العاده است.
Pyrolysis همچنین قطعنامه روش DLL را بهبود می بخشد، از آنجا که ساختار در معرض پیرولیز قرار دارد، در مقایسه با اندازه اصلی، انقباض قابل توجهی را نشان می دهد. اما انقباض ساختارهای pyrolyzed، مشکل ساختار چسبندگی را به سوبسترا که در حال حاضر در مرحله DLL وجود دارد، تشدید می کند. این مشکلات اهمیت عملی مهم هستند، اما تا کنون تحقیقات جامعی در مورد این مسائل وجود نداشت. در همین حال، ارزیابی صحیح کاهش اندازه عناصر و به طور کلی ارزیابی جامع از تاثیر پیرولیز بر ساختار DF کاملا ضروری است اگر یک کار برای پردازش میکروفن با دقت بالا وجود داشته باشد.
ردیف بالا: لنز IP-DIP (a) لنز (a) به پیرولیز و (b) پس از پیرولیز در 450 درجه سانتیگراد C. محدوده متوسط: ormocomp (c) لنز به پیرولیز و پس از پیرولیز در (d) 450 درجه سانتیگراد C و (e) 690 درجه سانتیگراد محدوده پایین: لنز SZ2080 (F) به پیلوریز و (F) پس از پیرولیز در 690 درجه سانتیگراد در 690 درجه سانتیگراد
دانشمندان بخش نانوفوتونیک مرکز فن آوری های کوانتومی MSU خود را وظیفه انجام یک مطالعه تطبیقی بر اثر پیرولیز بر روی اشیاء جامد در اندازه ده ها میکرومتر، چاپ شده با استفاده از تکنولوژی DLL از سه عکسبرداری تجاری در دسترس است: IP کاملا آلی -Dip و ormocomp و ormocomp و sz2080. برای دمای آنیلینگ دمای 450 و 690 درجه سانتیگراد در فضای آرگون، تغییرات در اندازه، ترکیب شیمیایی و چسبندگی به بستر بشقاب سیلیکون تخمین زده شد.
دانشمندان CCC در کار منتشر شده در مجله Express Material Express، دانشمندان CCC تایید کردند که انقباض ساختار توسط نوع نورپردازی، و همچنین دمای Pyrolysis، جو و ساختار هندسه تعیین می شود. با توجه به رفتار یک عکسبرداری خاص پس از پردازش پس از پردازش با پیرولیز، ممکن است به دست آوردن نتایج مطلوب، به طور کامل مربوط به وظایف خاص، و ایجاد میکرو و نانوساختارهای قابل اعتماد مقاوم و قابل اعتماد از شکل دلخواه و تقریبا هر مقصد.
مقایسه نشان داد که دمای بالاتر منجر به انقباض قوی تر می شود. سازه های IP-DIP بعد از انلینگ به کربن شیشه تبدیل می شوند، در حالی که مواد معدنی ORMOCOMP و SZ2080 Photoresists در شیشه ای با انجماد اصلاح می شوند. سازه های IP-DIP همچنین بزرگترین انقباض را از عکس های منتخب انتخاب شده نشان می دهند. بنابراین، DLL با پیرولیز پس از پیرولیز IP-DIP می تواند برای ایجاد ساختارهای کربن شیشه ای هدایت شود.
Ormocomomp برای ایجاد آرایه های مرتب از عناصر نوری مفید است که می تواند در منابع اشعه ایکس تقاضا باشد. به نوبه خود، ساختارها از Photoresist SZ2080 در طول پیرولیز اغلب از بستر جدا شده است، که مناسب برای ساخت ساختارهای تک، که پس از آن باید به یک روز دیگر منتقل شود. داده های به دست آمده ممکن است با استفاده از تکنولوژی Pyrolysis به عنوان یک روش استاندارد ساختارهای پس از پردازش ایجاد شده توسط تکنولوژی DLL مورد استفاده قرار گیرد و به عنوان توسعه فعال این نوع پس از پردازش، دانشمندان توجه داشته باشند.
منبع: علوم برهنه