Lîtolojiya lîtolojiya du-photonîk (DL) yek ji rêgezên sereke ye ku di pêşveçûna teknolojiyên additive de ji bo afirandina polîmer Micro- NanoObjects. Nexşeya wê ya bê şert û merc e ku meriv strukturên hema hema sê-dîmenên biafirîne, ku dikare were bikar anîn dema afirandina kristên fotonê, cîhazên mekanîkî yên cûda, û her weha di amûrên pêvajoyê û hilanînê de.
Lêbelê, tevî derfetên hêja yên ku ji hêla vê teknolojiyê ve hatine peyda kirin, ew sînorkirinên berbiçav pêk tîne. Hilbijartina materyalan dema ku DLL bikar tîne ji hêla fotoresîstan ve sînorkirî ye - Materyalên Fotograf ên Polymeric. Ji ber zelalbûna polîmeran di rêza berbiçav, nebûna pêkanîna elektrîkê, taybetmendiyên mekanîkî yên Mezinahî, û her weha aramiya germ û tîrêjê kêm, karanîna pratîkî ya strukturên ku bi DLL re sînorkirî dimînin. Mimkun e ku meriv hin qedexeyên heyî bikar bîne bi karanîna post-përbortsên DF-ê bikar bînin.
Yek ji wan rêbazên sozdar ên piştî pêvajoyê tê gotin, ku bi hevdemî di heman demê de zêdebûna çareseriyê û danasîna fonksiyonên nû peyda dike. Bi taybetî, materyalên Pyrolycred bi hêza zêdebûna hêza mekanîkî de aramiya germ û tîrêjê bilind nîşan dan. DLL li dû pyrolîzasyona ku jixwe ji bo bidestxistina nanoelectrodes ji bo dengbêjên neurotiator, ji bo mîkroskopiya atomî-hêzê, di metamîzên berbiçav de, ji bo dengbêjên karbonê, pêşbaziyên fotonê, ji bo wergirtina mîkrobatên bi hêz.
Pyrolîzasyon di heman demê de çareseriya rêbaza DLL jî baştir dike, ji ber ku strukturên ku ji pyrolîzasyonê ve tê derxistin, bi mezinahiya orjînal re çirûskek girîng nîşan da. Lê Shrinkage of strukturên Pyrolyz pirsgirêka strukturên adhesion ji substrate re di qonaxa DLL de derdikeve. Van pirsgirêkan girîngiyek girîng a pratîkî ne, lê heya nuha li ser van pirsgirêkan lêkolînek berfireh tune. Di vê navberê de, nirxandina rastîn a kêmbûna hêmanan û bi gelemperî nirxandina berfireh a bandora pyrolîzasyonê ya li ser strukturên DF-ê hewce ye ku heke peywira mîkrobê ya bi rastbûna bilind hebe.
Row Row: IP-DIP (A) Lens (A) To Pyroliz û (B) piştî Pyrolîzmê li 450 derece C. Rêjeya navîn: Ormocomp (c) Lens to Pyrolîzm û piştî Pyrolîzeya li (D) 450 derece 690 derece c. Rêjeya jêrîn: lens sz2080 (f) piştî pyrolîzasyonê û (f) piştî pyrolîzeya li 690 dereceyan c / © www.osapublish.org
Zanyarên sektorên nanofotonîk ên navenda teknolojiyên quantum ên ku ji bo pêkanîna lêkolînên bi dehan mîkrometer, bi teknolojiya DLL-ê ji sê fototîstanên Dll re hatine çap kirin: bi tevahî organîk -Dip û organ-inorganic ormocomp û SZ2080. Ji bo germbûna germahî 450 û 690 derece Celsius di atmosfera Argon de, di guherînan de, berhevoka kîmyewî, kîmyewî û adhesion ji substrate ya substrate ya plakaya silicon hate texmîn kirin.
Di xebata ku di Kovara Materyona Optîkî ya Express de hatî weşandin, zanyar CCC piştrast kir ku Shrinkage ya strukturê ji hêla celebê fotoresist, û her weha germahiya pyrolîzmê, atmosfer û avahiya geometrî ve tê destnîşankirin. Tê hesibandin ku bi karanîna photorîstek taybetî re piştî pêvajoyê bi piyolîzmê, gengaz e ku bigihîje encamên çêtirîn, bi tevahî li gorî karên taybetî û pêbawer û pêbawer ên şeklê xwerû û hema hema her armancê.
Berhevdan nîşan da ku germahiyek bilindtir dibe ku bi rengek bihêztir bibe. Strukturên ji IP-DIH-ê piştî annabe di karbonê de têne veguheztin, di heman demê de materyalên neorganîk ên fotorîstên Ormocomp û SZ2080 di pîvanê de bi sondxwarinê têne guheztin. Strukturên ji IP-DIP-ê di heman demê de Shrinkage ya herî mezin a ji fotorîstên bijartî nîşan didin. Bi vî rengî, dll bi pyrolîzasyona paşîn a pyrolîzasyona IP-dip dikare were bikar anîn da ku avbahiyên karbonê biafirîne.
Ormocomp ji bo çêkirina aramên fermanber ên hêmanên optîkî yên ku dikarin di daxwazên X-Ray de bêne xwestin kêrhatî ye. Di encamê de, strukturên ji fotoresîst SZ2080 bi gelemperî ji substrate ve têne veqetandin, ku ji bo çêkirina strukturên yekane, ku wê hingê hewce ye ku li Wednesdayarşemiyek din were veguheztin. Daneyên wergirtî dikare bêtir teknolojiya pyrolîzasyonê wekî rêbazek standard a avahiyên post-pêvajoyê ji hêla teknolojiya DLL ve hatî afirandin, û dê wekî pêşkeftinek çalak a vê celebê post-pêvajoyê, zanyaran nîşan bide.
Sourceavkanî: Zanista Naked