Lenggang laser rong fotronis (DL) minangka salah sawijining arah utama ing pangembangan teknologi aditif sing digunakake kanggo nggawe polimer micro- lan nanoobjektif. Plus tanpa syarat yaiku kemampuan kanggo nggawe struktur meh kabeh konfigurasi telung dimensi, sing bisa digunakake nalika nggawe kristal Photo, uga macem-macem piranti mekanik, uga ing proses lan piranti.
Nanging, sanajan kesempatan sing apik sing diwenehake dening teknologi iki, ngemot watesan substansial. Pilihan bahan nalika nggunakake DLL diwatesi dening foto-foto - bahan photosensitive polimensitive. Amarga transparan saka polimer ing kisaran sing katon, kekurangan konduktivitas listrik, uga stabil panas lan radiasi, panggunaan praktis tetep digawe kanthi dll tetep diwatesi. Sampeyan bisa ngatasi sawetara watesan sing ana kanthi nggunakake post-struktur DF-Struktur.
Salah sawijining cara sing njanjeni proses sing dijanjekake diarani pyrolysis, sing bebarengan nyedhiyakake peningkatan resolusi lan introduksi fungsi anyar. Khususé, bahan pyrolotred nuduhake stabil termal lan radiasi sing dhuwur kanthi kekuwatan mekanik sing tambah akeh. Dll diikuti karo pyrolysis wis sukses digunakake kanggo entuk swara karbon nanoelectre, tips khusus kanggo mikroskop khusus kanggo metimalser visoscopy lan metimalser mekanikal.
Pyrolysis uga nambah resolusi metode dll, amarga struktur kasebut kapapar pyrolysis, nuduhake gerah sing signifikan dibandhingake karo ukuran asli. Nanging nyusut struktur pyrolyzed mbebayani masalah struktur adhesion menyang substrat sing wis ana ing tahap DL. Masalah kasebut penting banget, nanging nganti saiki ora ana riset sing komprehensif babagan masalah kasebut. Kangge, penilaian sing bener saka nyuda ukuran unsur lan umume penilaian ekstremensi saka pyrolysis sing perlu banget yen ana tugas kanggo entuk akurasi mic kanthi akurasi.
Larangan ndhuwur: lensa IP (a) (a) kanggo pyrolysis lan (b) sawise pyrolysis ing 450 derajat C. Tengah Range: ormocomp (c) lensa (d) 450 derajat c lan (e) 690 derajat c. Range ngisor: lensa sz2080 (f) kanggo pyrolysis lan (f) sawise pyrolysis ing 690 derajat c / © www.osapublish.org
Ilmuwan sektor nanofotonic pusat teknologi kuantum MSU nyetel tugas komparatif saka pyrolis saka pylosker saka mikromotter sing kasedhiya ing telung ruang mikrapan sing kasedhiya kanthi ukuran 2 komersial -Dip lan ormocomp organik lan sz2080. Kanggo suhu suhu suhu 450 lan 690 derajat Celsius ing swasana Argon, owah-owahan ing ukuran, komposisi kimia lan adhesion menyang landasan piring silikon diprakirakake.
Ing karya sing diterbitake ing Jurnal Materi Optik, Jurnal CCC dikonfirmasi manawa nyusut struktur kasebut ditemtokake dening jinis photoesist, uga suhu pyrolysis, swasana ati lan geometri. Ngrampungake prilaku foto tartamtu sawise diproses kanthi pyrolysis, bisa kanggo nggayuh asil sing optimal, kanthi cocog karo tugas tartamtu, lan nggawe mikro- lan nanosrture sing tahan lan bisa dipercaya lan meh kabeh tujuan.
Perbandingan nuduhake manawa suhu sing luwih dhuwur nyebabake nyusut sing luwih kuat. Struktur saka IP-Celup Sawise Annealing diowahi dadi karbon kaca, dene bahan-bahan anorganik ing Ormocomp lan Sz2080 fotorisasi diowahi ing kaca kanthi annealing. Struktur saka IP-Dep uga nduduhake gerah paling gedhe saka fotesesis sing dipilih. Mangkono, dll kanthi pyrolysis sakteruse pyrolysis sing sabanjure bisa digunakake kanggo nggawe struktur karbon kaca sing apik.
Ormocomp migunani kanggo nggawe penawaran unsur optik sing bisa dikarepake ing sumber sinar-X. Banjur, struktur saka Fotoresist SZ2080 sajrone Pyrolysis asring dipotong saka landasan kanggo ngasilake struktur siji, sing kudu dipindhah menyang Rebo liyane. Data sing dipikolehi bisa uga digunakake nggunakake teknologi pyrolysis minangka cara standar struktur post-processing sing digawe dening DLL teknologi, lan bakal dadi pangembangan sing aktif ing jinis proses, lan bakal dadi cathetan ilmuwan.
Sumber: Ilmu Naked